เป้าหมายทังสเตน
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์
| ชื่อผลิตภัณฑ์ | Tungsten (W) เป้าหมายสปัตเตอร์ |
| ระดับ | W1 |
| ความบริสุทธิ์ที่มีอยู่ (%) | 99.5%, 99.8%, 99.9%, 99.95%, 99.99% |
| รูปร่าง: | แผ่น, กลม, โรตารี่, ท่อ/หลอด |
| ข้อมูลจำเพาะ | ตามที่ลูกค้าต้องการ |
| มาตรฐาน | ASTM B760-07, GB/T 3875-06 |
| ความหนาแน่น | ≥19.3g/cm3 |
| จุดหลอมเหลว | 3410 ° C |
| ปริมาณอะตอม | 9.53 cm3/mol |
| ค่าสัมประสิทธิ์อุณหภูมิของความต้านทาน | 0.00482 I/℃ |
| ความร้อนระเหิด | 847.8 kJ/mol (25 ℃) |
| ความร้อนแฝงของการหลอมละลาย | 40.13 ± 6.67kJ/mol |
| สถานะ | เป้าหมายทังสเตนระนาบ, เป้าหมายทังสเตนหมุน, เป้าหมายทังสเตนกลม |
| สภาพพื้นผิว | ล้างโปแลนด์หรืออัลคาไล |
| ฝีมือ | Tungsten Billet (วัตถุดิบ)-ทดสอบระดับการกลิ้งร้อนและการอบ-การทดสอบการทดสอบ-โปแลนด์-โพลี |
เป้าหมายทังสเตนที่พ่นและเผามีลักษณะของความหนาแน่น 99% หรือสูงกว่าเส้นผ่านศูนย์กลางพื้นผิวโปร่งใสเฉลี่ยอยู่ที่ 100um หรือน้อยกว่าปริมาณออกซิเจนคือ 20ppm หรือน้อยกว่าและแรงโก่งตัวอยู่ที่ประมาณ 500mpa; มันปรับปรุงการผลิตผงโลหะที่ยังไม่ผ่านกระบวนการเพื่อปรับปรุงความสามารถในการเผาไหม้ค่าใช้จ่ายของเป้าหมายทังสเตนสามารถเสถียรในราคาต่ำ เป้าหมายทังสเตนที่ถูกเผามีความหนาแน่นสูงมีกรอบโปร่งใสระดับสูงที่ไม่สามารถทำได้โดยวิธีการกดแบบดั้งเดิมและการเผาผลาญและปรับปรุงมุมการโก่งตัวอย่างมีนัยสำคัญเพื่อให้สสารอนุภาคลดลงอย่างมีนัยสำคัญ
ข้อได้เปรียบ
(1) พื้นผิวเรียบที่ไม่มีรูขุมขนรอยขีดข่วนและความไม่สมบูรณ์อื่น ๆ
(2) การบดหรือการกลึงไม่มีรอยตัด
(3) ความบริสุทธิ์ของวัสดุที่เหนือชั้น
(4) ความเหนียวสูง
(5) micro trucalture ที่เป็นเนื้อเดียวกัน
(6) การทำเครื่องหมายเลเซอร์สำหรับรายการพิเศษของคุณด้วยชื่อแบรนด์ขนาดความบริสุทธิ์และอื่น ๆ
(7) ทุกพีซีของการสปัตเตอร์เป้าหมายจากรายการวัสดุและจำนวนผงการผสมคนงาน, outgas และเวลาสะโพก, ผู้ตัดเฉือนและรายละเอียดการบรรจุล้วนทำให้ตัวเราเอง
ขั้นตอนทั้งหมดเหล่านั้นสามารถสัญญากับคุณได้เมื่อมีการสร้างเป้าหมายหรือวิธีการสปัตเตอร์ใหม่หรือวิธีการที่สามารถคัดลอกและเก็บไว้เพื่อรองรับผลิตภัณฑ์ที่มีคุณภาพของ Stabel
dvantage อื่น ๆ
วัสดุคุณภาพสูง
(1) ความหนาแน่น 100 % = 19.35 g/cm³
(2) ความเสถียรของมิติ
(3) คุณสมบัติเชิงกลที่ได้รับการปรับปรุง
(4) การกระจายขนาดเกรนสม่ำเสมอ
(5) ขนาดเม็ดเล็ก
ชาวแอปพาเลเชียน
วัสดุเป้าหมายของทังสเตนส่วนใหญ่ใช้ในการบินและอวกาศ, การถลุงแมลงหายาก, แหล่งกำเนิดแสงไฟฟ้า, อุปกรณ์เคมี, อุปกรณ์การแพทย์, เครื่องจักรโลหะ, อุปกรณ์ถลุง, ปิโตรเลียมและสาขาอื่น ๆ
สินค้าที่เกี่ยวข้อง
-
สูง 99.8% ไทเทเนียมเกรด 7 รอบสปัตเตอร์ ...
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์ชื่อผลิตภัณฑ์ไทเทเนียมเป้าหมายสำหรับเครื่องเคลือบ PVD เกรดไทเทเนียม (GR1, GR2, GR5, GR7, GR12) เป้าหมายโลหะผสม: TI-AL, TI-CR, TI-ZR ฯลฯ Origin Baoji City Shaanxi Province China Titanium ) เนื้อหาเจือจาง <0.02 (%) ความหนาแน่น 4.51 หรือ 4.50 g/cm3 มาตรฐาน ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136 ขนาด 1. เป้าหมายรอบ: Ø30--2000มม., ความหนา 3.0 มม.-300 มม.; 2. แผ่น Targe: ความยาว: ความกว้าง 200-500 มม.: 100-230 มม. Thi ...
-
เป้าหมายแทนทาลัม
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์ชื่อผลิตภัณฑ์： Tantalum Tantalum สูงเป้าหมาย Tantalum Pure Target วัสดุ Tantalum Purity 99.95%นาทีหรือ 99.99%Min Min เป็นโลหะที่เป็นเงางามและมีความทนทานต่อการกัดกร่อน ชื่ออื่น TA เป้าหมายมาตรฐาน ASTM B 708 ขนาด DIA> 10 มม. * หนา> 0.1 มม. รูปร่าง Planar MOQ 5PCS เวลาการส่งมอบ 7 วันที่ใช้เครื่องเคลือบสปัตเตอร์ตารางที่ 1: องค์ประกอบทางเคมี ...
-
เป้าหมายไนโอเบียม
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์รายการข้อมูลจำเพาะ ASTM B393 9995 เป้าหมาย Niobium ขัดเงาบริสุทธิ์สำหรับมาตรฐานอุตสาหกรรม ASTM B393 ความหนาแน่น 8.57G/cm3 ความบริสุทธิ์≥99.95% ตามการตรวจสอบองค์ประกอบทางเคมีของลูกค้า , R04261 การขัดพื้นผิว, เทคนิคการบด, เผา, รีด, ฟีเจอร์การปลอมแปลงอุณหภูมิสูง ...
-
ความบริสุทธิ์สูงรูปทรงกลม 99.95% MO วัสดุ 3N5 ...
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์ชื่อแบรนด์ HSG Metal Model หมายเลข HSG-MOLY เป้าหมายเกรด MO1 จุดหลอมเหลว (℃) 2617 การประมวลผลการเผาผลาญ/ รูปร่างชิ้นส่วนพิเศษชิ้นส่วนวัสดุชิ้นส่วนวัสดุโมลิบดีนัมบริสุทธิ์องค์ประกอบทางเคมี MO:> = 99.95% ใบรับรอง ISO9001: 2015 มาตรฐาน ASTM B386 ความหนาแน่นของพื้นผิว 10.28g/cm3 สีเมทัลลิกความบริสุทธิ์ความบริสุทธิ์ Mo:> = 99.95% แอปพลิเคชันฟิล์มเคลือบ PVD ในอุตสาหกรรมแก้ว, ไอออน PL ...