เป้าหมายแทนทาลัม
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์
| ชื่อผลิตภัณฑ์： เป้าหมายแทนทาลัมความบริสุทธิ์สูงเป้าหมาย Tantalum Pure Pure | |
| วัสดุ | แทนทาลัม |
| ความบริสุทธิ์ | 99.95%นาทีหรือ 99.99%นาที |
| สี | โลหะสีเงินเงางามที่ทนทานต่อการกัดกร่อน |
| ชื่ออื่น | เป้าหมาย TA |
| มาตรฐาน | ASTM B 708 |
| ขนาด | dia> 10 มม. * หนา> 0.1 มม. |
| รูปร่าง | ระนาบ |
| MOQ | 5 ชิ้น |
| เวลาจัดส่ง | 7 วัน |
| ใช้แล้ว | เครื่องเคลือบสปัตเตอร์ |
ตารางที่ 1: องค์ประกอบทางเคมี
| เคมี (%) | |||||||||||||
| การกำหนด | หัวหน้าองค์ประกอบ | สิ่งสกปรก Maxmium | |||||||||||
| Ta | Nb | Fe | Si | Ni | W | Mo | Ti | Nb | O | C | H | N | |
| TA1 | ส่วนที่เหลือ | 0.004 | 0.003 | 0.002 | 0.004 | 0.006 | 0.002 | 0.03 | 0.015 | 0.004 | 0.0015 | 0.002 | |
| TA2 | ส่วนที่เหลือ | 0.01 | 0.01 | 0.005 | 0.02 | 0.02 | 0.005 | 0.08 | 0.02 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 | |
ตารางที่ 2: ข้อกำหนดทางกล (เงื่อนไขการอบอ่อน)
| เกรดและขนาด | อบอ่อน | ||
| แรงดึงนาที, psi (MPA) | ความแข็งแรงของอัตราผลตอบแทน, psi (MPA) (2%) | การยืดตัวขั้นต่ำ % (ความยาวเกจ 1 นิ้ว) | |
| แผ่นฟอยล์ และบอร์ด (RO5200, RO5400) ความหนา <0.060 "(1.524 มม.)ความหนา≥0.060 "(1.524 มม.) | 30000 (207) | 20000 (138) | 20 |
| 25000 (172) | 15000 (103) | 30 | |
| TA-10W (RO5255)แผ่นฟอยล์ และคณะกรรมการ | 70000 (482) | 60000 (414) | 15 |
| 70000 (482) | 55000 (379) | 20 | |
| TA-2.5W (RO5252)ความหนา <0.125 "(3.175 มม.)ความหนา≥0.125 "(3.175 มม.) | 40000 (276) | 30000 (207) | 20 |
| 40000 (276) | 22000 (152) | 25 | |
| TA-40NB (RO5240)ความหนา <0.060 "(1.524 มม.) | 40000 (276) | 20000 (138) | 25 |
| ความหนา> 0.060 "(1.524 มม.) | 35000 (241) | 15000 (103) | 25 |
ขนาดและความบริสุทธิ์
เส้นผ่านศูนย์กลาง: DIA (50 ~ 400) มม.
ความหนา: (3 ~ 28 มม.)
เกรด: RO5200, RO 5400, RO5252 (TA-2.5W)， RO5255 (TA-10W)
ความบริสุทธิ์:> = 99.95%,> = 99.99%
ข้อได้เปรียบของเรา
การตกผลึกซ้ำ: 95% ขนาดเกรนขั้นต่ำ: ความขรุขระพื้นผิว40μmขั้นต่ำ: RA 0.4 สูงสุดความแบน: 0.1 มม. หรือ 0.10% สูงสุด ความอดทน: ความอดทนของเส้นผ่านศูนย์กลาง +/- 0.254
แอปพลิเคชัน
เป้าหมายแทนทาลัมเป็นวัสดุอิเล็กโทรดและวัสดุวิศวกรรมพื้นผิวได้ถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมการเคลือบของการแสดงผลคริสตัลเหลว (LCD) การกัดกร่อนที่ทนความร้อนและการนำไฟฟ้าสูง
สินค้าที่เกี่ยวข้อง
-
เป้าหมายไนโอเบียม
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์รายการข้อมูลจำเพาะ ASTM B393 9995 เป้าหมาย Niobium ขัดเงาบริสุทธิ์สำหรับมาตรฐานอุตสาหกรรม ASTM B393 ความหนาแน่น 8.57G/cm3 ความบริสุทธิ์≥99.95% ตามการตรวจสอบองค์ประกอบทางเคมีของลูกค้า , R04261 การขัดพื้นผิว, เทคนิคการบด, เผา, รีด, ฟีเจอร์การปลอมแปลงอุณหภูมิสูง ...
-
ความบริสุทธิ์สูงรูปทรงกลม 99.95% MO วัสดุ 3N5 ...
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์ชื่อแบรนด์ HSG Metal Model หมายเลข HSG-MOLY เป้าหมายเกรด MO1 จุดหลอมเหลว (℃) 2617 การประมวลผลการเผาผลาญ/ รูปร่างชิ้นส่วนพิเศษชิ้นส่วนวัสดุชิ้นส่วนวัสดุโมลิบดีนัมบริสุทธิ์องค์ประกอบทางเคมี MO:> = 99.95% ใบรับรอง ISO9001: 2015 มาตรฐาน ASTM B386 ความหนาแน่นของพื้นผิว 10.28g/cm3 สีเมทัลลิกความบริสุทธิ์ความบริสุทธิ์ Mo:> = 99.95% แอปพลิเคชันฟิล์มเคลือบ PVD ในอุตสาหกรรมแก้ว, ไอออน PL ...
-
เป้าหมายทังสเตน
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์ชื่อผลิตภัณฑ์ทังสเตน (W) การสปัตเตอร์เป้าหมายเกรด W1 ความบริสุทธิ์ที่มีอยู่ (%) 99.5%, 99.8%, 99.9%, 99.95%, 99.99%รูปร่าง: แผ่น, กลม, โรตารี่, ท่อ/หลอดข้อกำหนดตามที่ลูกค้าต้องการมาตรฐาน ASTM B760- 07, GB/T 3875-06 ความหนาแน่น≥19.3G/cm3 จุดหลอมเหลว 3410 ° C ปริมาตรอะตอม 9.53 cm3/ค่าสัมประสิทธิ์อุณหภูมิโมลของความต้านทาน 0.00482 I/℃ความร้อนระทึกขวัญ 847.8 kJ/mol (25 ℃) kj/mol ...
-
สูง 99.8% ไทเทเนียมเกรด 7 รอบสปัตเตอร์ ...
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์ชื่อผลิตภัณฑ์ไทเทเนียมเป้าหมายสำหรับเครื่องเคลือบ PVD เกรดไทเทเนียม (GR1, GR2, GR5, GR7, GR12) เป้าหมายโลหะผสม: TI-AL, TI-CR, TI-ZR ฯลฯ Origin Baoji City Shaanxi Province China Titanium ) เนื้อหาเจือจาง <0.02 (%) ความหนาแน่น 4.51 หรือ 4.50 g/cm3 มาตรฐาน ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136 ขนาด 1. เป้าหมายรอบ: Ø30--2000มม., ความหนา 3.0 มม.-300 มม.; 2. แผ่น Targe: ความยาว: ความกว้าง 200-500 มม.: 100-230 มม. Thi ...