ความบริสุทธิ์สูงรูปทรงกลม 99.95% MO วัสดุ 3N5 โมลิบดีนัมเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบและการตกแต่งแก้ว
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์
| ชื่อแบรนด์ | โลหะ HSG |
| หมายเลขรุ่น | เป้าหมาย HSG-Moly |
| ระดับ | MO1 |
| จุดหลอมเหลว (℃) | 2617 |
| กำลังประมวลผล | การเผา/ ปลอมแปลง |
| รูปร่าง | ชิ้นส่วนรูปร่างพิเศษ |
| วัสดุ | โมลิบดีนัมบริสุทธิ์ |
| องค์ประกอบทางเคมี | MO:> = 99.95% |
| ใบรับรอง | ISO9001: 2015 |
| มาตรฐาน | ASTM B386 |
| พื้นผิว | พื้นผิวสว่างและพื้นดิน |
| ความหนาแน่น | 10.28g/cm3 |
| สี | ความมันวาวโลหะ |
| ความบริสุทธิ์ | MO:> = 99.95% |
| แอปพลิเคชัน | ฟิล์มเคลือบ PVD ในอุตสาหกรรมแก้วการชุบไอออน |
| ข้อได้เปรียบ | ความต้านทานอุณหภูมิสูงความบริสุทธิ์สูงความต้านทานการกัดกร่อนที่ดีขึ้น |
ความพร้อมใช้งานมาตรฐานอธิบายไว้ด้านล่าง มีขนาดและความคลาดเคลื่อนอื่น ๆ
| ความหนา | สูงสุด ความกว้าง | สูงสุด ความยาว |
| .090 " | 24 " | 110 " |
| .125 " | 24 " | 80 " |
| .250 " | 24 " | 40 " |
| .500 " | 24 " | 24 " |
| > .500 " | 24 " |
สำหรับความหนามากขึ้นผลิตภัณฑ์แผ่นจะถูก จำกัด ไว้ที่ 40 กิโลกรัมน้ำหนักสูงสุดต่อชิ้นส่วนความหนาของแผ่นความหนาของแผ่นความหนา
| ความหนา | .25 "ถึง 6" | 6 "ถึง 12" | 12 "ถึง 24" |
| .090 " | ± .005 " | ± .005 " | ± .005 " |
| > .125 | ± 4% | ± 4% | ± 4% |
molybdenum plate ความทนทานความกว้างมาตรฐาน
| ความหนา | .25 "ถึง 6" | 6 "ถึง 12" | 12 "ถึง 24" |
| .090 " | ± .031 " | ± .031 " | ± .031 " |
| > .125 | ± .062 " | ± 062 " | ± 062 " |
บันทึก
แผ่นงาน (0.13mm ≤ thickness ≤ 4.75mm)
แผ่น (ความหนา> 4.75 มม.)
มิติอื่น ๆ สามารถเจรจาต่อรองได้
เป้าหมายโมลิบดีนัมเป็นวัสดุอุตสาหกรรมที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในแก้วนำไฟฟ้า, STN/TN/TFT-LCD, แก้วออปติคัล, การเคลือบไอออนและอุตสาหกรรมอื่น ๆ เหมาะสำหรับระบบเคลือบผิวแบนและสปินทั้งหมด
เป้าหมายโมลิบดีนัมมีความหนาแน่น 10.2 g/cm3 จุดหลอมเหลวคือ 2610 ° C จุดเดือดคือ 5560 ° C
ความบริสุทธิ์ของโมลิบดีนัมเป้าหมาย: 99.9%, 99.99%
ข้อมูลจำเพาะ: เป้าหมายกลม, เป้าหมายเพลต, เป้าหมายหมุน
คุณสมบัติ
การนำไฟฟ้าที่ยอดเยี่ยม
ความต้านทานของอุณหภูมิสูง
จุดหลอมเหลวสูงออกซิเดชันสูงและความต้านทานการกัดเซาะ
แอปพลิเคชัน
ใช้กันอย่างแพร่หลายเป็นอิเล็กโทรดหรือวัสดุการเดินสายในวงจรรวมเซมิคอนดักเตอร์จอแสดงผลแผงแบนและการผลิตแผงโซลาร์เซลล์และเขตข้อมูลอื่น ๆ ในเวลาเดียวกันเรามีการผลิตทังสเตนเป้าหมายแทนทาลัมเป้าหมาย Niobium เป้าหมายทองแดงมิติการผลิตเฉพาะตามความต้องการของลูกค้า
สินค้าที่เกี่ยวข้อง
-
เป้าหมายไนโอเบียม
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์รายการข้อมูลจำเพาะ ASTM B393 9995 เป้าหมาย Niobium ขัดเงาบริสุทธิ์สำหรับมาตรฐานอุตสาหกรรม ASTM B393 ความหนาแน่น 8.57G/cm3 ความบริสุทธิ์≥99.95% ตามการตรวจสอบองค์ประกอบทางเคมีของลูกค้า , R04261 การขัดพื้นผิว, เทคนิคการบด, เผา, รีด, ฟีเจอร์การปลอมแปลงอุณหภูมิสูง ...
-
สูง 99.8% ไทเทเนียมเกรด 7 รอบสปัตเตอร์ ...
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์ชื่อผลิตภัณฑ์ไทเทเนียมเป้าหมายสำหรับเครื่องเคลือบ PVD เกรดไทเทเนียม (GR1, GR2, GR5, GR7, GR12) เป้าหมายโลหะผสม: TI-AL, TI-CR, TI-ZR ฯลฯ Origin Baoji City Shaanxi Province China Titanium ) เนื้อหาเจือจาง <0.02 (%) ความหนาแน่น 4.51 หรือ 4.50 g/cm3 มาตรฐาน ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136 ขนาด 1. เป้าหมายรอบ: Ø30--2000มม., ความหนา 3.0 มม.-300 มม.; 2. แผ่น Targe: ความยาว: ความกว้าง 200-500 มม.: 100-230 มม. Thi ...
-
เป้าหมายแทนทาลัม
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์ชื่อผลิตภัณฑ์： Tantalum Tantalum สูงเป้าหมาย Tantalum Pure Target วัสดุ Tantalum Purity 99.95%นาทีหรือ 99.99%Min Min เป็นโลหะที่เป็นเงางามและมีความทนทานต่อการกัดกร่อน ชื่ออื่น TA เป้าหมายมาตรฐาน ASTM B 708 ขนาด DIA> 10 มม. * หนา> 0.1 มม. รูปร่าง Planar MOQ 5PCS เวลาการส่งมอบ 7 วันที่ใช้เครื่องเคลือบสปัตเตอร์ตารางที่ 1: องค์ประกอบทางเคมี ...
-
เป้าหมายทังสเตน
พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์ชื่อผลิตภัณฑ์ทังสเตน (W) การสปัตเตอร์เป้าหมายเกรด W1 ความบริสุทธิ์ที่มีอยู่ (%) 99.5%, 99.8%, 99.9%, 99.95%, 99.99%รูปร่าง: แผ่น, กลม, โรตารี่, ท่อ/หลอดข้อกำหนดตามที่ลูกค้าต้องการมาตรฐาน ASTM B760- 07, GB/T 3875-06 ความหนาแน่น≥19.3G/cm3 จุดหลอมเหลว 3410 ° C ปริมาตรอะตอม 9.53 cm3/ค่าสัมประสิทธิ์อุณหภูมิโมลของความต้านทาน 0.00482 I/℃ความร้อนระทึกขวัญ 847.8 kJ/mol (25 ℃) kj/mol ...